真空電弧熔煉爐產(chǎn)品用途

非自耗真空電弧爐主要供大專(zhuān)院?；蚩蒲袡C構在真空或保護氣氛下對少量（數十克至上百克）貴金屬或合金材料高熔點(diǎn)材料·難熔金屬等進(jìn)行熔化處理。

通過(guò)電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金

產(chǎn)品結構說(shuō)明

真空電弧熔煉爐由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構、上電極旋轉升降機構，吸鑄模具升降機構，真空系統及電源系統等組成。

爐體采用雙層水冷結構，內外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結構新穎外形美觀(guān)大方。

控制系統與爐體采用一體化設計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作。

下電極可裝有五個(gè)坩堝工位，一個(gè)吸鑄工位 移動(dòng)上電極可選擇一個(gè)進(jìn)行熔化。

上電極可上下移動(dòng)，方便熔化操作。

爐側有一至二個(gè)觀(guān)察窗用來(lái)操作引弧，觀(guān)察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。

真空系統采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無(wú)聲，無(wú)雜音。真空機組上設有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。

電源控制采用電弧熔煉電源，安全系數高，穩定性強。電路設有斷水報警及保護功能。

設備參數

1、型號：DHL-1250

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室，尺寸φ400X400mm

3、真空系統配置：機械泵、擴散泵（分子泵）、擋板閥

4、極限壓力：≤6.67x10E-3Pa  ≤6.67x10E-4Pa  （分子泵）

5、熔煉電流：長(cháng)期工作電流700-1200A

6、熔煉坩堝：有五個(gè)工位 (半球窩SR25)、三個(gè)熔煉合金工位 (帶磁攪拌)、一個(gè)吸鑄工位、一個(gè)熔煉除氣工位

7、熔煉樣品重量 (以鐵標定)： 50~80克

8、真空吸鑄裝置：提供標準噴鑄模具1套

9、電弧熔煉陰極裝置

10、引弧方式：高頻引弧

11、設備占地面積：1200*800*1600